Out on the line, a flexible electronics run goes sideways the moment the photoresist bake drifts. Across the 300 mm wafer, a few tenths of a degree is all it takes to smear linewidths, and you don’t even catch it until metrology flags the batch—by then, it’s already scrap. What you need is heat you can bank on: temperature that hits the recipe exactly, across the whole substrate. מה שחשוב, מבחינה טכנית בנינו את מחמם הפלטה הזה סביב בקרת טמפרטורה בדרגת סמי-קונדוקטור. הליבה שומרת על אחידות ±0.1°C לאורך כל אזור הפעילות, כך שכל דיא מקבל את תקציב החום האחיד. התאים תואם חדר נקי מדרגה 1 עד דרגה 100, עם משטחים שנבחרו לשמור על ספירת חלקיקים יציבה. אפס יצור חלקיקים אינו סיסמה – זו דרישת עיצוב, שנבדקה בשטח. וחזרתיות הנקודה הנקבעת מדויקת מספיק כדי שפרופילי אפייה רכה וקשה יישמרו בין אצוות מבלי צורך בכיול מחודש. מדוע זה מחזיק מעמד בפועל תת-מישורים גמישים אינם סולחים לנקודות חמות – עיוותים והתנתקות מתגלים במהירות. מחמם זה שומר על מישור הפלטה איזותרמי, כך שנשמרת יציבות ממדית בזמן שהפוטורזיסט מתייבש. התוצאה היא פחות תיקונים חוזרים, שיעור הצלחה גבוה בסבב הראשון, וזמן מחזור שניתן לתכנן סביבו. ההספק מנוהל על ידי ייצוב מהיר ומסה תרמית נמוכה, כך שאין תשלום על תוספת חום בכל שינוי של שלבי המתכון. אתה מקבל שליטה בתהליך שניתן לאמת: רוחב קווים עקבי, עובי סרט יציב, ופרופיל תרמי שמתאים לציפיות המפעל. מה שעליך לתכנן היחידה מתאימה לשילוב בנתיבי קיים ובכלי ציפוי/אפייה, אך יש לאשר את מיקום הרגליים והממשקים מול המעטפת הכלים שלך. ההפעלה קצרה – די ליישר את שיפועי החימום וזמני השרייה עם ערימת הרזיסט שלך. מגבלה שכדאי לציין: הביצועים תלויים באוורור מבוקר, לכן יש להימנע ממיקום שבו זרימת האוויר הלמינרית מופרעת. לאחר כיול, המערכת פועלת 24/7 עם בדיקות מונעות שגרתיות, והאחידות נשמרת לאורך מחזורי תחזוקה מתוכננים.