Di area litografi ini, langkah PEB digunakan untuk menetapkan lebar garis yang diinginkan. Jika suhu berubah sebesar 0,5°C pada wafer, maka akan terbentuk efek bias yang membutuhkan waktu berminggu-minggu untuk diperbaiki. Kami merancang pemanas Post Exposure Bake ini agar variabel tersebut dapat dikendalikan dengan baik.
Apa yang penting di baliknya? Inti dari sistem ini adalah array pemancar gelombang pendek berbahan kuarsa-halogen, yang dikombinasikan dengan sistem kontrol berkelompok. Pada wafer berukuran 300 mm, keseragaman suhu tetap berada dalam kisaran ±0,1°C. Repeatabilitas antar batch juga tetap dalam kisaran ±0,2°C, sehingga profil aktivasi fotoresist tidak berubah. Bahan-bahan pembuat chamber ini sesuai standar ruang bersih kelas 1–100. Geometri pemanasnya dirancang sedemikian rupa sehingga turbulensi diminimalkan, sehingga tidak ada partikel yang terbentuk selama proses pemanasan. Anda akan mendapatkan titik suhu yang stabil antara 90°C hingga 150°C, dengan laju peningkatan suhu hingga 10°C/detik. Selain itu, desainnya juga mencegah terbentuknya daerah panas di permukaan wafer.
Yang perlu diperhatikan adalah bahwa kesalahan suhu PEB berdampak langsung pada kesalahan CD dan penurunan hasil produksi. Dengan pemanas ini, proses pemanasan berjalan sesuai rencana yang telah ditentukan, bukan sesuai keputusan alat tersebut. Hasilnya adalah lebih sedikit wafer yang tidak layak digunakan, distribusi suhu yang lebih baik pada lapisan-lapisan kritis, serta proses verifikasi yang lebih cepat.
Anda juga akan menghemat energi, karena sumber gelombang pendek hanya memanaskan objek yang menjadi target, bukan lingkungan sekitarnya. Massa termal yang rendah mempercepat waktu transisi dari kondisi diam ke kondisi pemanasan. Sistem ini dirancang untuk beroperasi 24/7, dengan perawatan yang mudah dilakukan.
Apa yang diperlukan untuk mengoperasikannya? Pemanas ini dapat berfungsi dengan antarmuka FOUP dan SEMI standar. Namun, diperlukan kabel kontrol berkekuatan 24 V serta udara kering yang bersih agar proses pembersihan berjalan efektif. Saat pemasangan, luangkan waktu sekitar 30 menit untuk melakukan kalibrasi dan pemeriksaan drift suhu. Setelah itu, lakukan pemeriksaan keseragaman suhu setiap hari menggunakan wafer yang telah dikalibrasi.
Jika Anda berada di ruangan dengan kelembapan tinggi, pastikan aliran udara untuk proses pembersihan berjalan lancar. Jika tidak, uap air dapat mengganggu jalur inframerah dan menyebabkan ketidakseragaman suhu yang kecil namun berulang-ulang.