Nel reparto di produzione, anche una piccola quantità di umidità può rovinare l’intero processo di litografia. Il riscaldamento tradizionale comporta fluttuazioni di temperatura, e le particelle presenti sulle superfici calde finiscono direttamente nel film fotolitografico. Abbiamo quindi creato lampade per la disidratazione dell’acqua deionizzata, al fine di eliminare queste variazioni. I raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda agiscono rapidamente sull’film d’acqua, riscaldandone la superficie senza superare i limiti tollerabili del fotolitico. In questo modo, i wafer vengono asciugati in modo efficiente, e i processi di riscaldamento avvengono entro limiti termici precisi.
Cosa è importante nella fase di asciugatura
I raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda permettono di disidratare rapidamente l’film d’acqua. La geometria del rivestimento in quarzo e dei riflettori assicura che il calore venga distribuito esattamente dove necessario. Si ottiene così una uniformità alla pari di ±0,1°C tra i vari wafer, oltre a una regolazione precisa dei parametri di riscaldamento. Il sistema funziona in ambienti puliti di classe 1–100. La zona di riscaldamento non genera particelle, e non c’è alcun rischio di contaminazione del fotolitico. La densità di potenza è regolata in modo da favorire l’evaporazione dell’acqua, senza superare i limiti termici del fotolitico. L’output delle lampade rimane stabile 24/7; abbiamo registrato unità che hanno funzionato per oltre 5.000 ore con una diminuzione della performance inferiore al 5%.
Perché è utile in produzione
Le lampade riducono il tempo necessario per l’asciugatura, sostituendo i metodi tradizionali basati sulla convezione o su piastre riscaldanti. I wafer vengono asciugati più velocemente, e l’angolo di contatto rimane costante. I parametri del fotolitico rimangono costanti anche tra una serie di produzioni successive. I vantaggi includono meno riparazioni, meno scarti e un migliore controllo delle dimensioni critiche dei wafer. Inoltre, il consumo energetico diminuisce, poiché vengono riscaldati soltanto l’acqua e i wafer stessi, e non l’aria circostante. Gli intervalli di sostituzione delle lampade aumentano, mentre i tempi di manutenzione diminuiscono, grazie a una struttura che elimina parti mobili e una massa termica eccessiva.
Cosa bisogna tenere in considerazione
Durante l’installazione, è necessario abbinare correttamente la lampada alle specifiche del dispositivo, alla fonte di alimentazione e al sistema di raffreddamento. È importante verificare la compatibilità della tensione e dei connettori, e assicurarsi che il profilo termico della lampada sia conforme alle specifiche del processo di produzione. La lampada funziona al meglio quando la chimica della superficie dei wafer è sotto controllo. I tensioattivi presenti nella superficie dei wafer possono influenzare il processo di asciugatura; quindi è necessario gestirli adeguatamente.