팹에서는 리소그래피 공정 이후에 단 하나의 물방울만으로도 많은 문제가 발생할 수 있습니다. 기존의 건조 방식에서는 온도가 변동하고, 입자들이 뜨거운 표면에서 직접 필름 속으로 들어갑니다. 우리는 그러한 변동성을 없애기 위해 탈이온수를 사용하는 건조 장치를 만들었습니다. 단파 적외선은 물막을 빠르게 가열하지만, 포토레지스트의 온도를 초과하지 않습니다. 이를 통해 웨이퍼를 깨끗하게 건조시킬 수 있으며, 부드러운 건조 및 강력한 건조 과정도 엄격한 온도 제어 하에 이루어집니다.
핵심 요소 단파 적외선은 물막을 빠르게 가열합니다. 석영 커버와 반사체의 구조 덕분에 열이 필요한 곳에만 전달됩니다. 그 결과, 웨이퍼의 온도는 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지되며, 포토레지스트의 건조 과정도 일관된 상태를 유지합니다. 이 시스템은 Class 1–100 등급의 청정실에서 작동합니다. 가열 구역에서는 입자가 전혀 발생하지 않으며, 포토레지스트가 오염되는 일도 없습니다. 전력 밀도는 포토레지스트의 열 한계를 넘지 않으면서 증발을 촉진하도록 조절됩니다. 램프의 출력은 24시간 내내 안정적으로 유지되며, 5,000시간 이상 사용해도 성능 저하가 5% 미만입니다.
생산 현장에서의 장점 이 장비는 느린 대류 방식이나 온도가 변동하는 히트플레이트를 대체할 수 있습니다. 그 덕분에 웨이퍼가 더 빨리 건조되고, 모든 웨이퍼의 접촉각도 일정하게 유지됩니다. 포토레지스트의 성능도 매번 일관됩니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고, 폐기물도 줄어들며, 치명적인 치수 오차도 줄어듭니다. 주변 공기가 아닌 물과 웨이퍼 자체를 가열하기 때문에 에너지 소비도 줄어듭니다. 움직이는 부품이나 무거운 열 질량이 없기 때문에 교체 주기도 길어지고, 유지보수 비용도 줄어듭니다.
주의해야 할 사항 설치할 때는 램프가 해당 장비의 공기 흡입구, 전원 공급 장치, 냉각 시스템과 잘 맞는지 확인해야 합니다. 전압과 커넥터의 호환성도 점검해야 하며, 램프의 열 프로파일이 기존의 설정과 일치하는지도 확인해야 합니다. 웨이퍼 표면의 화학적 상태가 잘 조절될 때 램프의 성능이 최적화됩니다. 미량의 계면활성제도 건조 과정에 영향을 줄 수 있으므로, 그러한 요소들도 잘 관리해야 합니다.