팹에서는 포토레지스트를 건조시키거나 웨이퍼를 건조하는 과정에서 발생하는 온도 변동이 단순한 이론적인 문제가 아닙니다. 이러한 변동은 실제적인 결함과 수율 저하로 이어집니다. 오븐이나 히트플레이트가 규정된 온도를 유지할 수 없으면, 웨이퍼의 선폭 제어가 어려워지고, 접착력도 떨어지며, 입자 수도 증가합니다. 우리는 반도체 제조 공정에서 온도 조절이 매우 중요하기 때문에, 이러한 변수들을 제거할 수 있는 적외선 히터를 설계했습니다.
기술적으로 중요한 점 우리의 적외선 히터는 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 일정하게 유지해줍니다. 그래서 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서도 온도가 안정적으로 유지됩니다. 반응 속도도 빠르기 때문에, 뚜껑을 열거나 다른 로트의 웨이퍼를 처리할 때도 온도 변동이 적습니다. 또한, 이 히터는 입자를 전혀 생성하지 않으며, 클린룸 클래스 1–100 환경에서도 문제없이 사용됩니다. 5,000시간 이상 사용해도 출력 성능이 일관되며, 성능 저하율은 5% 미만입니다. 따라서 예상치 못한 가동 중단 시간을 줄이고, 계획된 유지보수만 진행하면 됩니다.
리소그래피 및 건조 공정에서의 효과 리소그래피 과정에서는 소프트 베이크가 용매의 증발과 필름의 응력을 조절하는 데 중요한 역할을 합니다. 작은 온도 변동이라도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 웨이퍼 건조 과정에서는 남아 있는 수분이 마이크로브리지나 오염의 원인이 됩니다. 우리의 적외선 히터는 이러한 문제들을 해결하여 공정의 정확성을 높이고, 로트 간의 일관성을 향상시킵니다. 그 결과, 웨이퍼의 치수 제어가 더욱 정확해지고, 재작업이 줄어들며, 웨이퍼당 에너지 소비도 줄어듭니다. 왜냐하면 에너지가 직접 기판에 전달되고, 챔버를 가열하는 데 사용되지 않기 때문입니다.
제대로 설치하기 위한 팁 설치할 때는 방출체의 파장과 출력 밀도를 해당 장비의 반사기 구조와 온도 센서의 피드백 루프에 맞춰야 합니다. 기존 장비에 연결하는 것은 간단하지만, 제어 전략도 잘 맞아야 합니다. 오픈루프 방식의 제어는 클로즈드루프 방식의 온도 제어를 대체할 수 없습니다. 본격적인 생산에 들어가기 전에, 설정 값을 조절하여 웨이퍼 전체의 온도가 일관적인지 확인해야 합니다.