Out of the cleaning bath, a wafer comes with a skin of DI water. The drying oven has to strip that moisture off without cooking the photoresist or kicking up particles. If the timer drifts, dwell time wanders—and that shows up on the line as yield leak. So we built a timer for wafer drying ovens that keeps the process honest. Co musi robić, technicznie Ten timer jest przeznaczony do sprzętu termicznego w przemyśle półprzewodników. Dokładność pomiaru czasu wynosi 0,1%, a powtarzalność ±10 ms. Podłącza się go bezpośrednio do pętli sterowania pieca, zasilanie 24 VDC i człony zabezpieczeń PLC, a obudowa ma klasę szczelności IP54, przystosowaną do wilgotnego, silnie chemicznego powietrza wokół stanowisk mycia. Konstrukcja zgodna z wymaganiami cleanroom, materiały o niskim poziomie emisji gazów oraz wyświetlacz pokazujący czas upływający i zakończenie cyklu — bez zgadywania. Interfejs jest świadomie uproszczony: ustaw, startuj, potwierdź. Dlaczego to ma znaczenie w etapie suszenia Suszenie waferów operuje w wąskim budżecie termicznym. Za krótki cykl daje ślady wody. Za długi powoduje ryzyko ponownego uplastycznienia fotooporu lub generuje problemy z obrzeżem warstwy po kolejnym nałożeniu i wypieku. Ten timer eliminuje zmienność operatora i utrzymuje ten sam czas cyklu, partia po partii. Efektem jest spójna suchość, mniej poprawek i stabilne poziomy zanieczyszczeń cząstek, niewahające się między zmianami. Dodatkowo ułatwia dokumentowanie, rejestrując czasy cykli do SPC bez wprowadzania zakłóceń w linii. Co trzeba wiedzieć przy instalacji Montaż sprowadza się do dopasowania napięcia sterującego piecem i logiki zabezpieczeń. Dostarczamy schematy połączeń i korekty kalibracyjne, aby okno czasowe timera pokrywało się z rampą i fazą wygrzewania pieca. Zaleca się 15-minutową kontrolę integracji podczas okna konserwacyjnego. Timer jest wytrzymały, ale nie zastępuje kontroli temperatury. Należy stosować go wraz z zweryfikowanym planem jednolitości termicznej pieca, aby uzyskać prawidłowy efekt.