Flexibler Elektronik Wafer Heizer

Thu, 04 Jun 2026 00:35:03 +0800

Out on the line läuft bei einer flexiblen Elektronikproduktion alles schief, sobald das Backen des Photoresists abdriftet. Über die 300 mm Wafer-Oberfläche genügen wenige Zehntel Grad, um die Linienbreiten zu verschmieren, und man merkt es erst, wenn die Messtechnik die Charge meldet – dann ist der Wafer bereits Ausschuss. Was benötigt wird, ist eine Temperatur, auf die man sich verlassen kann: eine Hitze, die das Rezept exakt trifft, über den gesamten Substratbereich hinweg.

Was technisch zählt
Wir haben diesen Wafer-Heizer um Halbleiter-geeignete Temperaturregelung herum konstruiert. Der Kern hält ±0,1°C Gleichmäßigkeit über die aktive Zone, sodass jeder Die denselben thermischen Aufwand erhält. Die Kammer ist reinraumkompatibel von Klasse 1 bis Klasse 100, mit Oberflächen, die darauf ausgelegt sind, die Partikelzahl konstant zu halten. Null Partikelgenerierung ist kein Werbeslogan – es ist eine Konstruktionsvorgabe, die in-situ überprüft wird. Und die Wiederholgenauigkeit des Sollwerts ist so eng, dass Softbake- und Hardbake-Profile von Charge zu Charge ohne Nachjustierung übernommen werden können.

Flexibel on Warm IR Heaters for Home

Flexibler Elektronik Wafer Heizer