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		<title>Sockel on Warm IR Heaters for Home</title>
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				<title>Infrarotlampeinsatz für Waferwerkzeug</title>
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				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:05:03 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-home.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Infrarotlampeinsatz für Waferwerkzeug&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Schon eine Schwankung von 1 °C wä&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;hrend&lt;/a&gt; des Weichbrennvorgangs oder beim Trocknen der Wafer reicht aus, um die kritischen Abmessungen zu beeinträchtigen und somit die Ertragsrate zu senken. Deshalb ist die Infrarotlampe in den Waferbearbeitungsgeräten so konstruiert, dass keine Annahmen bezüglich der thermischen Bedingungen mehr notwendig sind.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir verwenden Kurzwellen-Infrarotemitter in Kombination mit Hochreinheitsquarzsockeln. Dadurch wird eine schnelle, lokalisierte Erwärmung erreicht – mit einer Reaktionszeit von unter einer Sekunde. Die Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche des Wafers bleibt bei ±0,1 °C, und die Wiederholgenauigkeit des Zielwertes liegt bei ±0,5 °C von Zyklus zu Zyklus. Das Design sorgt außerdem dafür, dass während des Betriebs keine Teilchen entstehen – zudem ist das Gerät für Reinräume von Klasse 1 bis 100 geeignet. Die Leistungsaufbringung ist konstant, mit engen Spannungs toleranzen sowie einer gleichmäßigen Strahlintensität. Dadurch bleibt das gleiche thermische Profil von Gerät zu Gerät sowie von Schicht zu Schicht erhalten.&lt;/p&gt;</description>
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