Trocknen on Warm IR Heaters for Home

Energieprüfung für die Trocknung in der Fabrik

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Ihre Bauteile bleiben trocken – ohne Chaos
Wenn Sie einen Reinraum der Klasse 100 betreiben, kennen Sie sicherlich das Problem der Partikelentstehung. Schon ein kleiner Splitter von einem billigen Heizelement oder etwas Abgasen einer minderwertigen Lampe können dazu führen, dass Ihre Wafer zerstört werden. Die Erträge sinken – es ist eine Katastrophe.

Deshalb verwenden wir für unsere Infrarotlampen synthetischen Quarz hoher Reinheit. Dadurch bleibt alles sauber.

Warum Quarz tatsächlich funktioniert
Wir verwenden geschmolzenen Siliziumquarz – er reagiert nicht negativ auf Temperaturschwankungen. Sein Wärmeausdehnungskoeffizient ist sehr niedrig – das bedeutet, er bricht nicht, wenn er schnell erhitzt oder abgekühlt wird.

Trockner für MEMS Sensorwafers

Thu, 16 Jul 2026 01:13:50 +0800

Warum IR-Heizung zur Trocknung von MEMS-Wafern besser ist als Heißluft
Wenn Sie immer noch Heißluft zur Trocknung Ihrer MEMS-Sensorwafer verwenden, verbringen Sie viel zu viel Zeit damit, einfach nur abzuwarten. Das ist ein Engpass.

Heißluft setzt auf Konvektion – man muss zunächst die Luft erhitzen, und anschließend hebt diese Luft die Wafer auf. Es handelt sich dabei um einen Zwischenschritt, der Zeit in Anspruch nimmt.

IR-Heizung hingegen funktioniert anders: Sie nutzt elektromagnetische Strahlung, um direkt die Oberfläche der Wafer zu erwärmen. Es gibt keinen Zwischenschritt mehr – dadurch werden die Trocknungszeiten auf nur wenige Sekunden reduziert. In einer Produktionslinie mit hoher Auslastung ist das ein großer Vorteil: Man kann mehr Wafer pro Stunde fertigstellen, ohne dass eine größere Reinraumanlage nötig wäre.

Entionisierte Wasser Trocknungslampe

Mon, 22 Jun 2026 18:39:10 +0800

Auf der Produktionsebene kann bereits ein einziger Wasserfleck nach der Lithographie zu erheblichen Problemen führen. Bei herkömmlichen Trocknungsverfahren schwankt die Temperatur, und Partikel gelangen von den heißen Oberflächen direkt in die Schicht. Wir haben Desionisiertwasser-Trocknungslampen entwickelt, um diese Unregelmäßigkeiten auszuschließen. Kurzwelliges Infrarot strahlt schnell auf die Wasserschicht ein, wodurch die Oberfläche erhitzt wird – ohne dass dabei die Temperaturen des Photoresists überschritten werden. Dadurch werden die Wafer sauber getrocknet, und sowohl das Weich- als auch das Hartbacken erfolgen innerhalb eines festgelegten Temperaturbereichs.

Timer für den Wafer Trockenschrank

Mon, 08 Jun 2026 02:24:02 +0800

Aus dem Reinigungsbad kommt ein Wafer mit einem Film von DI-Wasser. Der Trockenschrank muss diese Feuchtigkeit entfernen, ohne den Fotolack zu beschädigen oder Partikel aufzuwirbeln. Wenn die Zeitschaltuhr driftet, schwankt die Verweilzeit – und das zeigt sich in der Fertigung als Ertragsverlust. Deshalb haben wir einen Timer für Wafer-Trockenschränke entwickelt, der den Prozess präzise steuert.

Technische Anforderungen
Dieser Timer ist für thermische Anlagen in der Halbleiterfertigung ausgelegt. Die Timing-Genauigkeit beträgt 0,1 %, die Reproduzierbarkeit ±10 ms. Er lässt sich direkt in die Ofensteuerung integrieren, mit 24 VDC und SPS-Interlocks, und ist nach IP54 gegen feuchte, chemisch belastete Luft in Reinigungsbereichen geschützt. Die Konstruktion ist für Reinräume geeignet, verwendet Materialien mit geringem Ausgasungsverhalten, und das Display zeigt die verstrichene Zeit sowie den Abschluss des Zyklus an – ohne Interpretationsspielraum. Die Bedienoberfläche ist bewusst einfach gehalten: Einstellen, Starten, Bestätigen.