Secado on Warm IR Heaters for Home

Auditoría energética para el secado de fábricas

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Mantener sus piezas limpias sin causar desorden
Si opera en una sala limpia de clase 100, seguramente ya conoce el problema que supone la presencia de partículas en suspensión. Una sola partícula proveniente de un elemento calefectorio barato o un poco de gas emitido por una lámpara de baja calidad puede arruinar sus obleas. La productividad disminuye drásticamente. Es un verdadero desastre.

Por eso utilizamos cuarzo sintético de alta pureza en nuestras lámparas de infrarrojos. De esta manera, se evita que haya partículas en suspensión.

Calentador para secado de obleas de sensores MEMS

Thu, 16 Jul 2026 01:13:48 +0800

¿Por qué el calentamiento por infrarrojos es mejor que el uso de aire caliente para secar las obleas de sensores MEMS?
Si todavía utiliza el aire caliente para secar sus obleas de sensores MEMS, está perdiendo mucho tiempo simplemente esperando. Es un obstáculo significativo en el proceso de secado.

El problema con el aire caliente es que depende de la convección: primero hay que calentar el aire, y luego ese aire debe calentar la oblea. Es un proceso intermedio, y por lo tanto lento.

Lámpara de secado de agua desionizada

Mon, 22 Jun 2026 18:39:10 +0800

En la planta de fabricación, una sola marca de agua puede arruinar todo después del proceso de litografía. El secado convencional provoca fluctuaciones en la temperatura, y las partículas se desplazan desde las superficies calientes directamente hacia la película fotográfica. Construimos lámparas para el secado con agua desionizada, a fin de eliminar esa variabilidad. Las ondas infrarrojas de corta longitud penetran rápidamente en la película de agua, calentando su superficie sin sobrepasar los límites térmicos del material fotográfico. De esta manera, las obleas se secan de manera uniforme, y se mantiene un control preciso de las temperaturas durante los procesos de curado.

Temporizador para horno de secado de obleas

Mon, 08 Jun 2026 02:24:02 +0800

Fuera del baño de limpieza, un wafer sale con una película de agua DI. El horno de secado debe eliminar esa humedad sin cocinar el fotoresistente ni levantar partículas. Si el temporizador se desvía, el tiempo de permanencia varía—y eso se refleja en la línea como pérdida de rendimiento. Por eso diseñamos un temporizador para hornos de secado de wafers que mantiene el proceso controlado.

Qué debe hacer, técnicamente
Este temporizador está diseñado para equipos térmicos en semiconductores. La precisión del tiempo alcanza un 0.1 % y la repetibilidad es de ±10 ms. Se conecta directamente en los lazos de control del horno, con 24 VDC y enclavamientos PLC, y tiene una clasificación IP54 para ambientes húmedos y con alta concentración química en las zonas de limpieza. Construcción compatible con sala limpia, materiales de baja emisión de gases y una pantalla que muestra el tiempo transcurrido y el ciclo completado—sin lugar a suposiciones. La interfaz se mantiene intencionadamente simple: configurar, iniciar, confirmar.