Séchage on Warm IR Heaters for Home

Audit énergétique pour le séchage en usine

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Maintenir vos composants propres sans créer de saleté
Si vous travaillez dans une salle propre de classe 100, vous connaissez bien le problème posé par les particules en suspension dans l’air. Un simple fragment provenant d’un élément chauffant de mauvaise qualité, ou une légère émission de gaz provenant d’une lampe de qualité inférieure, suffit pour endommager vos wafer. Cela entraîne une baisse significative du rendement de production. C’est un véritable désastre.

C’est pourquoi nous utilisons du quartz synthétique de haute pureté pour nos lampes infrarouges. Cela permet de maintenir tout propre.

Chauffage pour séchage de la tranche du capteur MEMS

Thu, 16 Jul 2026 01:13:50 +0800

Pourquoi le chauffage par rayonnement infrarouge est supérieur à l’air chaud pour le séchage des wafers MEMS
Si vous utilisez encore de l’air chaud pour sécher vos wafers de capteurs MEMS, vous perdez beaucoup de temps rien que dans l’attente. C’est un véritable goulot d’étranglement.

En réalité, l’air chaud repose sur la convection : il faut d’abord chauffer l’air, puis cet air doit à son tour chauffer le wafer. C’est un processus intermédiaire, et donc lent.

Lampe de séchage à eau déionisée

Mon, 22 Jun 2026 18:39:10 +0800

Sur le plan de fabrication, une simple trace d’eau peut nuire gravement au produit fini après la lithographie. Le séchage conventionnel entraîne des fluctuations de température, et les particules se déplacent des surfaces chaudes vers la couche de dépôt. Nous avons donc conçu des lampes de séchage utilisant de l’eau déionisée afin d’éliminer ces variations. Les ondes infrarouges à courte longueur d’onde atteignent rapidement la couche d’eau, chauffant sa surface sans dépasser les limites thermiques du matériel de résistance. Cela permet de sécher les wafers de manière efficace, tout en maintenant des conditions thermiques stables pendant le processus de cuisson.

Minuteur pour four de séchage des plaquettes

Mon, 08 Jun 2026 02:24:02 +0800

Hors du bain de nettoyage, une plaquette sort avec une fine couche d’eau DI. Le four de séchage doit éliminer cette humidité sans cuire la photorésine ni générer de particules. Si le minuteur dérive, le temps de séjour fluctue — ce qui se traduit sur la ligne par une baisse de rendement. Nous avons donc conçu un minuteur pour les fours de séchage de plaquettes qui garantit la fiabilité du procédé.

Fonctions techniques requises
Ce minuteur est destiné aux équipements thermiques pour semi-conducteurs. La précision de la temporisation atteint 0,1 %, avec une répétabilité de ±10 ms. Il se connecte directement aux boucles de contrôle du four, avec une alimentation 24 VDC et des interverrouillages PLC, et bénéficie d’une protection IP54 adaptée à l’air humide et chargé en produits chimiques des zones de nettoyage. Construction conforme aux salles propres, matériaux à faible dégazage, et un affichage indiquant le temps écoulé ainsi que la fin du cycle — sans laisser place à l’incertitude. L’interface reste volontairement simple : réglage, démarrage, confirmation.