Mengeringkan on Warm IR Heaters for Home

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Mempertahankan Kebersihan Wafers Tanpa Kekacauan
Jika Anda mengelola ruang bersih kelas 100, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya masalah partikel yang terlepas dari komponen-komponen tertentu. Sebuah serpihan kecil dari elemen pemanas murahan atau uap yang dihasilkan oleh lampu berkualitas rendah saja sudah cukup untuk merusak wafers tersebut. Hal ini tentu akan berdampak negatif pada hasil produksi. Ini merupakan bencana.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi untuk lampu inframerah kami. Bahan ini memastikan bahwa segala sesuatu tetap bersih.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Thu, 16 Jul 2026 01:13:53 +0800

Mengapa Pemanasan dengan Sinar Infra Merah Lebih Unggul daripada Penggunaan Udara Panas untuk Mengeringkan Wafer MEMS
Jika Anda masih menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS, berarti Anda membuang-buang waktu yang banyak hanya untuk menunggu proses pengeringan selesai. Ini merupakan hambatan besar dalam proses produksi.

Proses pemanasan menggunakan udara panas bergantung pada mekanisme konveksi. Anda perlu memanaskan udara terlebih dahulu, lalu udara tersebut yang akan memanaskan wafer. Proses ini membutuhkan waktu yang lama.

Sebaliknya, pemanasan dengan sinar infra merah berbeda. Sinar inframerah digunakan untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung, tanpa perlu melalui udara sebagai perantara. Dengan cara ini, waktu pengeringan bisa diperpendek dari beberapa menit menjadi hanya beberapa detik saja. Hal ini sangat menguntungkan jika Anda memiliki proses produksi dengan kapasitas tinggi. Anda dapat menghasilkan lebih banyak wafer per jam, tanpa perlu membangun ruang bersih yang lebih besar.

Lampu pengering air yang telah didestilasi

Mon, 22 Jun 2026 18:39:11 +0800

Di fasilitas produksi, satu titik kelembapan saja sudah cukup untuk merusak seluruh produk yang dihasilkan setelah proses litografi. Proses pengeringan konvensional menyebabkan perubahan suhu yang tidak terkendali, sehingga partikel-partikel dapat menempel pada permukaan yang panas dan masuk ke dalam lapisan film tersebut. Kami membuat lampu pengering air yang menggunakan air deionisasi agar variasi suhu dapat dikendalikan. Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek dapat dengan cepat memanaskan permukaan air tanpa mengganggu lapisan fotoresist. Dengan demikian, wafer akan kering dengan sempurna, dan proses pemanasan pun tetap berlangsung dalam rentang suhu yang stabil.