Riscaldatore per post exposure bake (PEB)

Fri, 03 Jul 2026 02:37:26 +0800

Nella fase di litografia, la fase PEB è quella in cui si definiscono i valori relativi alla larghezza dei bordi delle linee da stampare. Se si regola la temperatura di 0,5°C rispetto al wafer, si ottiene un risultato che potrebbe richiedere settimane per essere perfezionato. Abbiamo creato questo riscaldatore per eliminare questa variabilità.

Cosa è importante nel funzionamento del sistema
Il nucleo del sistema è costituito da un array di emettitori a onde corte a base di quarzo e halogeni, abbinati a un sistema di controllo a circuito chiuso. Su un wafer di 300 mm, l’uniformità termica rimane entro ±0,1°C. La ripetibilità tra uno stock e l’altro rimane entro ±0,2°C, così che il profilo di attivazione del fotoreattivo non subisca variazioni. I materiali utilizzati per la struttura del sistema sono adatti per ambienti di tipo Class 1–100. Inoltre, la geometria del riscaldatore riduce le turbolenze, evitando così la formazione di particelle durante il processo di riscaldamento. Si ottengono quindi valori di temperatura stabili compresi tra 90°C e 150°C, con una velocità di aumento della temperatura fino a 10°C/s. Inoltre, la disposizione interna del sistema impedisce la formazione di zone troppo calde sul wafer.

(PEB) on Warm IR Heaters for Home

Riscaldatore per post exposure bake (PEB)