Soccorso per lampada a infrarossi per strumento a wafer

Sat, 27 Jun 2026 01:05:04 +0800

Nelle linee di produzione, si sa bene che anche un cambiamento di temperatura di soli 1°C durante il processo di essiccazione dei wafer può influire negativamente sulle dimensioni critiche dei componenti e ridurre la resa produttiva. Ecco perché i portalampade a infrarossi presenti nei macchinari per la lavorazione dei wafer sono progettati per eliminare ogni incertezza riguardo al bilancio termico.

Quello che è importante in fase di funzionamento
Utilizziamo emettitori a onde corte a infrarossi abbinati a portalampade in quarzo ad alta purezza: questo permette un riscaldamento rapido e localizzato, con tempi di risposta inferiori a un secondo. L’uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer rimane entro i ±0,1°C, mentre la ripetibilità del valore di setpoint è di ±0,5°C da ciclo a ciclo. Il design di questi dispositivi garantisce l’assenza di particelle durante il funzionamento, e sono compatibili con ambienti di tipo “clean room” dalla classe 1 fino alla classe 100. La fornitura di energia è stabile, con tolleranze di tensione molto basse e un’intensità di irradiazione costante; quindi lo stesso profilo termico viene mantenuto da macchina a macchina e da turno a turno.

Socket on Warm IR Heaters for Home

Soccorso per lampada a infrarossi per strumento a wafer