Lampada riscaldatore a wafer _con spedizione veloce

Thu, 25 Jun 2026 01:00:30 +0800

Nelle linee di produzione, si sa bene che anche un leggero cambiamento di temperatura, pari a mezzo grado, può compromettere il controllo delle dimensioni critiche dei wafer, trasformando così dei wafer di buona qualità in rifiuti. È quindi necessario un riscaldamento rapido e preciso, che mantenga la temperatura stabile, ciclo dopo ciclo.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Abbiamo progettato il nostro sistema di riscaldamento per wafer basato su elementi allogenici a onde corte, racchiusi in un involucro di quarzo. Questa scelta è stata fatta per garantire velocità di riscaldamento elevata e per mantenere una temperatura costante durante tutto il processo. L’uniformità della temperatura sulle superfici del wafer rimane entro ±0,1°C, mentre la ripetibilità del risultato rimane entro ±0,2°C, anche dopo migliaia di cicli di riscaldamento.

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