Mengeringkan on Warm IR Heaters for Home

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Menjaga Kualiti Bahan Supaya Tidak Rusak

Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa buruknya kesan akibat kehadiran zarah-zarah halus dalam udara. Sebuah zarah kecil dari komponen pemanas yang murah atau gas yang terhasil daripada lampu berkualiti rendah saja sudah cukup untuk merosakkan bahan yang digunakan. Ini akan menyebabkan penurunan kualiti produk. Ia merupakan bencana sebenar.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu inframerah kami. Dengan cara ini, segala sesuatu akan tetap bersih.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Thu, 16 Jul 2026 01:13:53 +0800

Mengapa Pemanasan IR Lebih Baik Daripada Penggunaan Udara Panas untuk Mengeringkan Wafer MEMS

Jika anda masih menggunakan kaedah penggunaan udara panas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS, anda akan membuang banyak masa hanya untuk menunggu. Ini merupakan halangan yang besar dalam proses pengeringan tersebut.

Cara kerja penggunaan udara panas adalah melalui proses konveksi. Anda perlu memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebut pula yang akan memanaskan wafer. Ia merupakan proses yang lambat.

Sebaliknya, pemanasan IR berfungsi dengan cara yang berbeza. Ia menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Tiada proses perantaraan yang diperlukan. Dengan cara ini, masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer dapat dikurangkan daripada beberapa minit kepada hanya beberapa saat sahaja. Apabila anda menghasilkan wafer dalam kuantiti yang banyak, ini merupakan kelebihan yang besar. Anda boleh menghasilkan lebih banyak wafer setiap jam, tanpa perlu membina bilik bersih yang lebih besar.

Lampu pengeringan air yang telah dideionisasi

Mon, 22 Jun 2026 18:39:11 +0800

Di bilik pengeluaran, satu titik air sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses litografi. Proses pengeringan secara konvensional menyebabkan perubahan suhu yang tidak stabil, dan zarah-zarah boleh terperangkap pada permukaan panas tersebut dan masuk ke dalam lapisan filem yang digunakan. Kami telah mencipta lampu pengeringan yang menggunakan air deionisasi untuk mengelakkan masalah ini. Gelombang inframerah pendek berfungsi dengan cepat untuk memanaskan permukaan air, tanpa melebihi had suhu yang dibenarkan untuk bahan fotorezist. Dengan cara ini, wafer dapat dikeringkan dengan bersih, dan proses pembakaran fotorezist dapat dilakukan dalam lingkungan suhu yang sesuai.