http://warm-ir-heater-home.com/ms/tags/peb/ Recent content in (PEB) on Warm IR Heaters for Home Hugo ms Fri, 03 Jul 2026 02:37:26 +0800 http://warm-ir-heater-home.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ Fri, 03 Jul 2026 02:37:26 +0800 http://warm-ir-heater-home.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-home.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas untuk proses post exposure bake (PEB)"></p> <p>Di bahagian litografi ini, langkah PEB digunakan untuk menetapkan ketebalan garis yang diinginkan. Jika suhu berubah sebanyak 0.5°C pada wafer tersebut, ia akan menyebabkan kesilapan dalam proses pencetakan yang memerlukan masa berminggu-minggu untuk diperbaiki. Kami mencipta pemanas Post Exposure Bake ini untuk mengelakkan masalah tersebut.</p> <p><strong>Apa yang penting di belakang tabir</strong><br> <a href="https://o-yate.net">Komponen</a> utamanya ialah array <a href="https://o-yate.com">pemancar</a> gelombang pendek <a href="https://henruite.com">jenis</a> kuarsa-halogen, yang digabungkan dengan sistem kawalan berlitar tertutup. Pada wafer berukuran 300 mm, keseragaman suhu dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C. Ketepatan proses juga kekal pada tahap ±0.2°C dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain, supaya profil aktivasi fotoresist tidak berubah. Bahan-bahan yang digunakan dalam sistem ini adalah berkualiti tinggi, sesuai untuk kelas kebersihan 1–100. Reka bentuk pemanas ini pula membantu mengurangkan turbulensi, sehingga tidak ada zarah-zarah yang terbentuk semasa proses pembakaran. Anda akan mendapat nilai suhu yang stabil antara 90°C hingga 150°C, dengan kadar peningkatan suhu sebanyak 10°C/s. Selain itu, reka bentuknya juga memastikan tiada kawasan panas di permukaan wafer.</p>