Pare de esperar que o forno funcione: por que o calor infravermelho é melhor que o ar forçado no processamento semicondutor
Se você já passou algum tempo em um laboratório de semicondutores, sabe bem como é frustrante ter que esperar que o ar quente circule pelo ambiente. É um processo lento. O uso de ar forçado significa basicamente esperar: primeiro o ar é aquecido, depois a câmara, e finalmente – se tivermos sorte – o substrato. É lento, e em um ambiente de produção de alta pressão, esse atraso parece uma eternidade.
É aí que entram as lâmpadas de infravermelho para salas limpas. Em vez de aquecer todo o ambiente, essas lâmpadas enviam energia diretamente para o alvo desejado.
É uma experiência completamente diferente.
Quando se passa de um forno convencional para um sistema de aquecimento por infravermelho, não se trata mais de aquecer todo o ar presente no ambiente, mas sim de focar no superfície do material. Essas lâmpadas atingem sua temperatura de operação em segundos. Não há mais necessidade de ficar esperando que o ciclo de aquecimento termine. Para sua equipe, isso significa que o tempo gasto com cada wafer diminui. É possível acelerar o processo e obter resultados melhores.
Mas há um problema: como essas lâmpadas geram muito calor em um espaço pequeno, elas podem causar problemas relacionados ao calor excessivo. Não se pode simplesmente colocar essas lâmpadas em um local destinado ao ar frio, esperando que tudo funcione bem. É preciso garantir que o sistema de ventilação seja capaz de lidar com esse calor excedente, caso contrário, estará apenas trocando um problema por outro.
Além disso, há ainda o fator da limpeza. Os ventiladores, na verdade, ajudam a espalhar partículas de poeira pelo ambiente, o que é o último coisa que se deseja em uma sala limpa. Já o infravermelho não move o ar; ele é estático. É silencioso. E é eficaz na limpeza do material.
Vemos os maiores benefícios níveis de cura, secagem e desgaseificação dos materiais. Em vez de esperar que a câmara fique “saturada” com calor, a lâmpada de infravermelho aquece o material instantaneamente. É rápido e eficiente. Para qualquer empresa que queira processar mais wafers sem comprometer a qualidade, essa é geralmente a primeira alteração que é feita.