Elemento de aquecimento para processamento de semicondutores

Mon, 29 Jun 2026 02:18:40 +0800

Na fábrica, a variação térmica durante os passos de secagem dos wafer ou de tratamento com fotoresist não é um problema abstrato – ela se manifesta como defeitos reais e perda de produtividade. Quando o forno ou a placa de aquecimento não consegue manter a temperatura dentro das especificações, o controle da espessura da camada depositada no wafer fica comprometido, a adesão entre os componentes diminui e a quantidade de partículas aumenta. Desenvolvemos nossos elementos de aquecimento por infravermelho para eliminar essa variabilidade, pois, no processamento de semicondutores, o controle térmico é essencial, e a repetibilidade é o único critério aceitável.

Processamento on Warm IR Heaters for Home

Elemento de aquecimento para processamento de semicondutores