
Trên sàn sản xuất, quá trình nung photoresist không chỉ là một bước nhiệt thông thường—mà còn là ngân sách nhiệt của bạn. Chỉ cần lệch nửa độ ở mục tiêu cũng sẽ gây ra sai lệch kích thước quan trọng và mất sản lượng, lô này qua lô khác. Ngân sách này được kiểm soát tại nơi nhiệt được tạo ra: phản xạ trong đèn chiếu hàn wafer.
Điều quan trọng về mặt kỹ thuật
Chúng tôi thiết kế phản xạ để phù hợp với phổ của nguồn halogen và hồng ngoại sóng ngắn, giúp năng lượng tập trung đúng chỗ—trên wafer—mà không làm tỏa nhiệt dư thừa lên quang học và các bàn di chuyển. Bề mặt và hình học được kiểm soát chặt chẽ để vùng nung đạt độ đồng đều nhiệt ở mức ±0.1°C trên wafer. Vật liệu nền là thạch anh siêu tinh khiết hoặc ceramic cấp cao, chọn lựa nhằm giảm tối đa phát khí và không sinh hạt bụi. Trong phòng sạch Class 1–100, nó giữ mức sinh hạt bụi dưới tiêu chuẩn, giúp môi trường lithography duy trì sạch.
Tại sao nó ổn định trong sản xuất
Phản xạ ổn định cả hai chế độ soft bake và hard bake, nhờ đó khả năng lặp lại được cải thiện qua các lô và độ biến thiên của lớp mép giảm. Kiểm soát nhiệt chặt chẽ hơn cho phép rút ngắn thời gian nung mà không ảnh hưởng đến hiệu năng photoresist—giúp giảm năng lượng tiêu thụ và tăng năng suất. Vật liệu và lớp phủ được thiết kế cho hoạt động liên tục 24/7, đảm bảo đầu ra ổn định trên 5,000+ giờ với sai số nhiệt thấp, giảm thời gian chết ngoài kế hoạch và tần suất thay đèn.
Việc lắp đặt chủ yếu dựa vào căn chỉnh: phản xạ phải thẳng hàng tuyệt đối với trục đèn và mặt phẳng wafer. Lệch vài milliradian có thể ảnh hưởng đến độ đồng đều nhiệt và tạo điểm nóng. Sản phẩm tương thích với các trạm chiếu tiêu chuẩn và có thể tùy chỉnh phù hợp với các kiểu dáng đèn và giao diện gắn cụ thể. Nếu sử dụng nguồn trung sóng hoặc NIR, cần xác nhận hệ số phản xạ phổ và tải nhiệt với nhà sản xuất đèn—nếu không có thể làm hỏng thân phản xạ.
Chúng tôi thiết kế hướng vào quy trình, không phải chỉ dựa vào bảng thông số. Khi quá trình nung được kiểm soát, nó không còn là rủi ro mà trở thành biến số có thể lặp lại và tin cậy.