Sấy Khô on Warm IR Heaters for Home

Kiểm toán năng lượng cho quy trình sấy trong nhà máy

Fri, 17 Jul 2026 01:46:49 +0800

Giữ cho các bề mặt khô ráo mà không gây ra bụi bẩn
Nếu bạn đang vận hành phòng sạch loại Class 100, chắc hẳn bạn đã hiểu rõ những rắc rối do sự xuất hiện của các hạt bụi gây ra. Chỉ cần một hạt nhỏ từ linh kiện sưởi ấm giá rẻ, hoặc một ít khí thải từ bóng đèn kém chất lượng, thì các tấm wafer của bạn sẽ bị hư hỏng. Điều này sẽ dẫn đến tỷ lệ sản xuất giảm sút nghiêm trọng. Thật là một thảm họa.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Thu, 16 Jul 2026 01:13:51 +0800

Tại sao phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại lại tốt hơn phương pháp sử dụng không khí nóng để sấy các tấm wafer MEMS?

Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sấy bằng không khí nóng để sấy các tấm wafer MEMS, thì bạn đang lãng phí quá nhiều thời gian chỉ để chờ đợi. Đó là một trở ngại lớn trong quy trình sản xuất.

Phương pháp sấy bằng không khí nóng dựa vào hiện tượng đối lưu nhiệt. Bạn cần làm nóng không khí trước, sau đó mới có thể dùng không khí đó để làm nóng các tấm wafer. Đó là một quy trình phức tạp và chậm chạp.

Đèn sấy nước đã được khử điện tích

Mon, 22 Jun 2026 18:39:11 +0800

Trong quy trình sản xuất, chỉ cần một vết nước nhỏ thôi cũng có thể gây hư hại nghiêm trọng cho các tấm wafer sau khi được in ấn bằng kỹ thuật lithography. Phương pháp sấy thông thường gây ra sự biến động về nhiệt độ, và các hạt bụi sẽ di chuyển từ bề mặt nóng vào lớp phim in. Chúng tôi đã chế tạo những chiếc đèn sấy sử dụng nước đã được khử ion để loại bỏ những yếu tố gây biến động này. Tia hồng ngoại cường độ cao giúp làm nóng lớp nước một cách nhanh chóng, mà không làm ảnh hưởng đến lớp phim in. Nhờ đó, các tấm wafer được sấy khô một cách sạch sẽ, và quá trình sấy diễn ra trong điều kiện nhiệt độ ổn định.

Bộ hẹn giờ cho lò sấy wafer

Mon, 08 Jun 2026 02:24:03 +0800

Out of the cleaning bath, a wafer comes with a skin of DI water. The drying oven has to strip that moisture off without cooking the photoresist or kicking up particles. If the timer drifts, dwell time wanders—and that shows up on the line as yield leak. So we built a timer for wafer drying ovens that keeps the process honest. What it has to do, technically This timer is meant for semiconductor thermal gear. Timing accuracy hits 0.1%, and repeatability is ±10 ms. It plugs straight into oven control loops, with 24 VDC and PLC interlocks, and it’s IP54-rated for the wet, chemical-heavy air around cleaning bays. Cleanroom-compatible construction, low-outgassing materials, and a display that shows elapsed time and cycle complete—no guesswork. The interface stays deliberately clean: set, start, confirm. Why this matters on the drying step Wafer drying lives on a tight thermal budget. If the cycle’s too short, you get water marks. Too long, and you risk photoresist reflow, or you set yourself up for edge bead headaches after the next coat/bake. This timer pulls the operator variable out of it and locks in the same cycle, lot after lot. You end up with consistent dryness, fewer reworks, and particle counts that don’t swing shift to shift. It also keeps the paperwork straight, logging cycle times for SPC without adding noise to the line. What you need to know for install Install comes down to matching the oven’s control voltage and interlock logic. We provide wiring diagrams and calibration offsets so the timer’s window lines up with the oven’s ramp and soak. Schedule a 15-minute integration check during a maintenance window. The timer is tough, but it’s not a replacement for temperature control. Pair it with a verified oven thermal uniformity plan, and you’re set.