Di fasilitas produksi, satu titik kelembapan saja sudah cukup untuk merusak seluruh produk yang dihasilkan setelah proses litografi. Proses pengeringan konvensional menyebabkan perubahan suhu yang tidak terkendali, sehingga partikel-partikel dapat menempel pada permukaan yang panas dan masuk ke dalam lapisan film tersebut. Kami membuat lampu pengering air yang menggunakan air deionisasi agar variasi suhu dapat dikendalikan. Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek dapat dengan cepat memanaskan permukaan air tanpa mengganggu lapisan fotoresist. Dengan demikian, wafer akan kering dengan sempurna, dan proses pemanasan pun tetap berlangsung dalam rentang suhu yang stabil.
Apa yang penting dalam sistem ini?
Sinar inframerah berpanjang gelombang pendek dapat dengan cepat menembus lapisan air. Struktur kuarsa dan reflektor yang digunakan memastikan bahwa panas hanya sampai di tempat yang diperlukan. Hal ini memberikan keseragaman suhu hingga ±0,1°C pada level wafer, serta kontrol yang akurat terhadap proses pemanasan fotoresist. Sistem ini beroperasi di ruang bersih kelas 1–100. Zona pemanasan tidak menghasilkan partikel apa pun, sehingga tidak ada kontaminasi pada lapisan fotoresist. Kepadatan daya yang digunakan disesuaikan agar proses penguapan berjalan lancar, tanpa melebihi batas suhu yang ditentukan oleh fotoresist. Keluaran lampu tetap stabil sepanjang waktu, dan kami telah melihat bahwa lampu ini dapat beroperasi selama lebih dari 5.000 jam dengan penurunan kinerja kurang dari 5%.
Mengapa hal ini penting dalam produksi?
Dengan menggunakan lampu ini, proses pengeringan menjadi lebih cepat, dan sudut kontak antara wafer dan permukaan pemanas tetap stabil. Profil lapisan fotoresist juga tetap konsisten dari satu kali produksi ke produksi berikutnya. Dengan demikian, jumlahproduk yang harus dibuat ulang berkurang, limbah pun berkurang, dan kontrol dimensi kritis tetap stabil. Penggunaan energi juga berkurang, karena yang dipanaskan hanyalah air dan wafer, bukan udara di sekitarnya. Interval penggantian lampu pun menjadi lebih lama, sedangkan waktu pemeliharaan menjadi lebih singkat, berkat desain yang bebas dari komponen bergerak dan massa termal yang besar.
Apa yang perlu diperhatikan?
Pemasangan lampu membutuhkan penyesuaian yang tepat terhadap ukuran lubang alat, sumber daya listrik, dan sistem pendinginan. Periksa voltage dan kompatibilitas kabelnya, serta pastikan profil termal lampu sesuai dengan prosedur yang berlaku. Lampu akan berkinerja terbaik ketika kondisi kimia permukaan wafer terkendali. Adanya surfaktan kecil dapat mengganggu proses pengeringan, jadi pastikan surfaktan tersebut dikendalikan sejak awal.