Menghadapi Masalah Suhu Tinggi dan Volatilitas Saat Memanaskan Wafer
Saat memanaskan wafer dalam proses pembersihan kimia, Anda sebenarnya tidak hanya berusaha mencapai suhu yang diinginkan saja. Pada dasarnya, Anda sedang mengelola risiko yang mungkin terjadi.
Sejujurnya, banyak sekali bahan pembersih yang mudah terbakar. Bahkan, beberapa di antaranya bersifat sangat mudah meledak. Jika Anda meletakkan lampu inframerah tepat di dekat uap-ujap tersebut, maka Anda sebenarnya sedang menciptakan situasi yang berbahaya. Itulah mengapa kita berhenti menggunakan lampu inframerah yang terbuka, dan beralih ke sistem yang menggunakan lampu inframerah yang tertutup. Hal ini tentu saja lebih aman.
Jarak Keamanan
Jarak keamanan bukanlah angka acak yang kami pilih secara sembarangan. Ini merupakan jarak yang diperlukan agar bagian-bagian sekitar lampu tetap dingin, sehingga bahan-bahan kimia tidak akan terbakar. Kami menentukan jarak ini dengan melihat daya lampu serta kemampuan penutup lampu untuk menyerap panas.
Masalahnya adalah, jika lampu diletakkan terlalu dekat dengan wafer atau dinding ruangan, maka suhu di sekitarnya akan menjadi sangat tinggi. Hal ini akan membuat uap-ujap yang volatil menjadi bahaya yang nyata. Anda perlu memberikan ruang yang cukup agar udara dapat beredar atau sistem pendinginan dapat bekerja dengan baik untuk menghilangkan panas tersebut sebelum situasi menjadi berbahaya.
Mengapa Kita Menggunakan Penutup yang Tertutup
Kami tidak membiarkan tabung kuarsa tersebut terbuka begitu saja. Lampu-lampu kami berada di dalam penutup yang tahan terhadap bahan kimia. Dengan kata lain, penutup tersebut berfungsi sebagai “dinding” yang memisahkan elemen pemanas dari bahan-bahan berbahaya di udara. Kami menggunakan penutup berkualitas tinggi agar bahan pembersih tidak bocor ke dalam penutup tersebut. Jika hal itu terjadi, maka akan timbul masalah seperti kerusakan pada tabung kuarsa atau korsleting listrik. Itu bukanlah situasi yang menyenangkan.
Kompromi yang Harus Diterima
Ada satu hal yang perlu dikorbankan: dengan adanya penghalang antara sumber radiasi inframerah dan wafer, maka energi radiasi yang dihasilkan akan berkurang sedikit. Meskipun jumlahnya tidak banyak, tetapi tetap ada. Untuk mengatasinya, Anda perlu meningkatkan daya lampu atau membiarkan wafer berada dalam kondisi tersebut lebih lama agar suhu yang diinginkan dapat tercapai. Pastikanlah bahwa sumber daya listrik yang digunakan mampu menangani beban tambahan tersebut. Itu merupakan harga kecil yang harus dibayar agar laboratorium Anda tidak terbakar.