リソグラフィー工程において、フォトレジストの加熱処理は単なるウォームアップではありません。これは重要な熱管理のプロセスです。もし、緩やかな加熱や強制的な加熱の温度が1度や2度でもずれてしまうと、重要な寸法精度が失われてしまいます。さらに、粒子の発生が加わると、全てが台無しになってしまいます。再現性のある熱を供給できる赤外線光源が必要です。推測に頼ることは許されません。
技術的に重要な点 私たちは、短波長のNIRを利用した、迅速に反応する石英素子を備えた赤外線ランプを開発しました。このシステムは、ウェハ全体の表面で±0.1℃の熱的均一性を実現しており、すべてのチップが同じ条件で加熱処理を受けます。クリーンルームクラス1～100に適合するように、低ガス放出型の材料や、粒子の発生を防ぐための構造が採用されています。粒子の発生を完全に防ぐのは単なるスローガンではなく、制御された材料と密閉された熱伝達経路によって実現されています。このランプは24時間365日稼働し、計画外の停止は一切ありません。また、5,000時間以上にわたっても出力のバラつきはごくわずかです。
なぜ生産ラインで効果的か このランプは、フォトレジストの加熱処理に最適なタイミングで作用します。ウェハを素早く所定の温度まで温め、その温度を維持します。その結果、プロセスの再現性が向上し、廃棄物も減少します。高い均一性により、エッジ部分の欠陥が減少し、迅速な熱応答によって加熱サイクルが短縮されます。また、ランプが必要な時だけ加熱され、すばやく冷却されるため、エネルギー消費も削減されます。さらに、ランプの交換回数が少なくなるため、メンテナンスの中断も少なくなります。
事前に知っておくべきこと 設置時には、反射材の形状や開口部をコーターやオーブンの仕様に合わせる必要があります。また、ランプをオーブンの温度制御システムに接続する必要があります。改修する前に、OEMのインターフェースとの電圧やコネクタの互換性を確認してください。システムが熱的に安定するまで、少し時間がかかります。その点を考慮して、加熱処理のタイミングを調整しましょう。そうすれば、必要なプロセス範囲内で作業を行うことができます。