ファブの現場では、リソグラフィーの後に発生するわずかな水分が大きな問題を引き起こすことがあります。従来の乾燥方法では温度が不安定であり、粒子が熱い表面から直接フィルム内に入ってしまいます。私たちは、そのような不確実性を排除するために脱イオン水を用いた乾燥装置を開発しました。短波長の赤外線が水膜に素早く当たり、表面を加熱しますが、レジストの耐熱限界を超えることはありません。これにより、ウエハーがきれいに乾燥し、ソフトベイクやハードベイクも厳格な温度管理のもとで行われます。
重要なポイント 短波長の赤外線は水膜を迅速に乾燥させます。石英製のケースや反射器の構造により、熱が必要な場所にだけ集中します。その結果、ウエハー全体で±0.1℃以内の均一性が得られ、フォトレジストのベイク工程でも再現性の高い制御が可能になります。このシステムはクラス1～100の清浄室で動作します。加熱領域では粒子が発生せず、レジストが汚染されることもありません。電力密度は、レジストの耐熱限界を超えないように調整されています。ランプの出力は24時間安定しており、5,000時間以上使用しても性能低下は5％未満です。
なぜ生産において有効なのか インラインで使用することで、従来の対流式の乾燥方法や不安定なホットプレートの代わりになります。ウエハーの乾燥速度が上がり、全てのウエハーで接触角が一定に保たれます。フォトレジストの特性も毎回同じになります。その結果、再作業が減少し、スクラップが少なくなり、重要な寸法の管理も安定します。空気を加熱するのではなく、水やウエハー自体を加熱するため、エネルギー消費も削減されます。また、可動部品や重い熱質量がないため、交換間隔が長くなり、メンテナンスの負担も少なくなります。
注意すべき点 設置時には、ランプがツールの開口部や電源、冷却システムと適合しているかを確認する必要があります。電圧やコネクタの互換性をチェックし、ランプの熱特性が既存の条件と一致していることを確認しましょう。ウエハー表面の化学的状態が安定している場合、ランプの性能は最適に発揮されます。微量の表面活性剤が乾燥過程に影響を与えるため、それらを事前に管理する必要があります。