ファブ内では、フォトレジストの焼成やウェーハの乾燥工程における熱変動は、単なる理論上の問題ではありません。実際には、それが不具合や歩留まりの低下として現れます。オーブンやホットプレートが規定の温度を保てないと、線幅の制御が乱れ、接着力が低下し、粒子の数も増えてしまいます。私たちは、半導体製造においては熱管理が非常に重要であり、再現性こそが最も重要な要素であるため、このような変動を排除するための赤外線ヒーター素子を設計しました。
技術的に重要な点 当社の赤外線ヒーター素子により、ウェーハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれます。そのため、ソフトベイクやハードベイクのプロセスも安定します。また、応答速度が速いため、蓋を開けたり、別のロットのウェーハを処理したりする際にも温度の急激な変動を防げます。この設計により、粒子の発生がなく、クリーンルームのクラス1～100でも問題なく使用できます。5,000時間以上の運用でも出力のばらつきは5％未満であり、予期しない停止時間を避けてメンテナンスを計画することができます。
なぜこれがリソグラフィーや乾燥工程に有効か リソグラフィーでは、ソフトベイクによって溶剤の蒸発やフィルムの応力が決まります。わずかな温度変動でも、重要な寸法に影響を与えます。ウェーハの乾燥工程では、残留水分がマイクロブリッジや汚染の原因となります。当社の赤外線ヒーターは、こうした問題を解決し、プロセスの再現性を向上させます。その結果、CDの精度が向上し、再加工が減少し、1枚あたりのエネルギー消費も削減されます。なぜなら、エネルギーはチャンバーの加熱に使われず、直接基板に届くからです。
正しく設置するためのポイント 設置時には、エミッターの波長や出力密度を、装置の反射器の形状や温度センサーのフィードバック回路に合わせる必要があります。既存の装置に接続するのは簡単ですが、制御戦略も適切でなければなりません。オープンループ制御では、クローズドループ制御に代わることはできません。本格的な生産を始める前に、短時間のテスト運転を行い、ウェーハ全体の均一性を確認しましょう。