더 이상 오븐을 기다리지 마세요: 반도체 가공에서 적외선이 강제 공기 순환 방식보다 우월한 이유
반도체 실험실에서 일해본 사람이라면, 뜨거운 공기가 순환하기를 기다리는 것이 얼마나 짜증나는 일인지 잘 알 것입니다. 강제 공기 순환 방식은 사실상 기다리는 과정일 뿐입니다. 먼저 공기를 가열하고, 그 다음에는 챔버를 가열하며, 마지막으로 운이 좋다면 웨이퍼까지 가열됩니다. 이런 방식은 매우 느리며, 고압 환경에서는 그런 지연 시간이 마치 영원처럼 느껴집니다.
그래서 여기서 클린룸용 적외선 램프가 필요합니다. 적외선 램프는 전체 공간을 따뜻하게 하는 대신, 에너지를 직접 목표물에 전달합니다. 전혀 다른 방식입니다.
대류식 오븐에서 적외선 램프로 바꾸면, 더 이상 전체 공기를 고려할 필요가 없으며, 오직 표면만을 처리하면 됩니다. 이 램프들은 몇 초 만에 작동 온도에 도달합니다. 더 이상 “온도 상승 과정”이 끝날 때까지 기다릴 필요가 없습니다. 팀 입장에서는 각 웨이퍼를 처리하는 데 걸리는 시간이 줄어듭니다. 더 빠르게 작업을 진행할 수 있으며, 품질을 해치지 않으면서도 더 많은 웨이퍼를 처리할 수 있습니다.
하지만 한 가지 단점이 있습니다. 이 램프들은 작은 공간 안에 엄청난 양의 열을 생성하기 때문입니다. 그러므로 적외선 램프를 차가운 공기가 흐르는 곳에 그냥 설치해서는 안 됩니다. HVAC 시스템과 배기 시스템이 그러한 열을 감당할 수 있어야 합니다. 그렇지 않으면 문제가 또 생길 뿐입니다.
또한 청결성 측면도 고려해야 합니다. 팬은 사실상 먼지를 퍼뜨리는 역할을 합니다. 이는 클린룸에서는 절대 원치 않는 상황입니다. 반면 적외선 램프는 공기를 움직이지 않습니다. 조용하고, 깨끗합니다.
적외선 램프는 경화, 건조, 탈기 과정에서 가장 큰 효과를 발휘합니다. 챔버가 “포화 상태”가 될 때까지 기다릴 필요가 없으며, 적외선 램프가 즉시 재료를 가열해줍니다. 이는 매우 빠른 방식입니다. 품질을 해치지 않으면서도 더 많은 웨이퍼를 처리하려는 시설들에게 적외선 램프는 최고의 선택입니다.