리소그래피 공정에서 PEB 단계는 웨이퍼의 선폭을 확정하는 중요한 과정입니다. 웨이퍼의 온도를 0.5°C만 변경해도, 수주 동안 해결해야 할 문제가 생길 수 있습니다. 우리는 이러한 변수들을 제거하기 위해 이 포스트 에кспо저 베이크 히터를 개발했습니다.
핵심은 무엇인가? 이 장비의 핵심은 석영-할로겐 단파 방사체 배열과 폐쇄 루프 제어 시스템입니다. 300mm 크기의 웨이퍼에서도 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지됩니다. 또한, 로트 간의 반복성도 ±0.2°C 이내로 유지되므로 포토레지스트의 활성화 프로파일이 변동하지 않습니다. 챔버의 재질은 클린룸 등급인 Class 1–100에 맞게 설계되어 있으며, 히터의 구조 덕분에 난류가 줄어들어 베이킹 과정에서 입자가 발생하지 않습니다. 90°C부터 150°C까지 안정적인 설정값을 얻을 수 있으며, 온도 상승 속도는 최대 10°C/s입니다. 또한, 고온 부위가 발생하지 않도록 설계되어 있습니다.
PEB 온도의 오차는 곧바로 CD 오차와 생산성 저하로 이어집니다. 이 히터를 사용하면 소프트 베이크와 하드 베이크 과정이 예상대로 진행됩니다. 그 결과, 폐기된 웨이퍼의 양이 줄어들고, 중요한 층들의 분포도 더욱 정확해집니다. 또한, 검증 과정도 더 빨라집니다.
또한, 단파 방사체가 목표물만을 가열하기 때문에 에너지도 절약됩니다. 낮은 열량 덕분에 대기 상태에서 베이킹 상태로 전환하는 데 걸리는 시간도 줄어듭니다. 그리고 이 시스템은 24/7 작동을 위해 설계되었으며, 유지보수도 계획적으로 수행될 수 있습니다.
운용에 필요한 것들 이 히터는 표준 FOUP 및 SEMI 인터페이스와 호환됩니다. 하지만 효과적인 퍼징을 위해서는 별도의 24V 제어선과 깨끗하고 건조한 공기가 필요합니다. 설치 시에는 30분 정도를 할애하여 정렬과 온도 변동 확인을 해야 합니다. 그 후에는 매일 교정된 웨이프를 사용하여 온도 균일성을 확인해야 합니다.
습도가 높은 환경에서는 퍼징 유량을 반드시 확인해야 합니다. 그렇지 않으면 응결수가 적외선 경로를 방해하여 작은 오차가 발생할 수 있습니다.