Di bilik pengeluaran, satu titik air sahaja sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan proses litografi. Proses pengeringan secara konvensional menyebabkan perubahan suhu yang tidak stabil, dan zarah-zarah boleh terperangkap pada permukaan panas tersebut dan masuk ke dalam lapisan filem yang digunakan. Kami telah mencipta lampu pengeringan yang menggunakan air deionisasi untuk mengelakkan masalah ini. Gelombang inframerah pendek berfungsi dengan cepat untuk memanaskan permukaan air, tanpa melebihi had suhu yang dibenarkan untuk bahan fotorezist. Dengan cara ini, wafer dapat dikeringkan dengan bersih, dan proses pembakaran fotorezist dapat dilakukan dalam lingkungan suhu yang sesuai.
Apa yang penting dalam sistem ini
Gelombang inframerah pendek dapat menembusi lapisan air dengan cepat. Struktur kuarsa dan reflektor yang digunakan memastikan haba tertumpu di tempat yang sepatutnya. Ini membolehkan konsistensi suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, serta kawalan yang tepat semasa proses pembakaran fotorezist. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100. Zon pemanasan ini tidak menghasilkan sebarang zarah, dan tiada gas yang terlepas yang boleh merosakkan fotorezist. Ketumpatan tenaga yang digunakan disesuaikan agar proses penyejatan berlaku tanpa melebihi had suhu fotorezist. Keluaran lampu tetap stabil sepanjang masa, dan kami pernah melihat unit ini beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan prestasi melebihi 5%.
Mengapa ia berguna dalam proses pengeluaran
Lampu ini menggantikan kaedah pengeringan konvensional yang lambat. Wafer dapat dikeringkan dengan lebih cepat, dan sudut sentuhan antara wafer dan permukaan pemanas tetap stabil. Profil fotorezist juga tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain. Ini mengurangkan keperluan untuk melakukan pembaikan, mengurangkan sisa bahan, dan memastikan kawalan dimensi yang stabil. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana hanya air dan wafer yang dipanaskan, bukan udara di sekelilingnya. Tempoh penggantian lampu juga menjadi lebih panjang, dan masa penyelenggaraan berkurangan, kerana reka bentuknya yang bebas daripada bahagian yang bergerak dan massa termal yang besar.
Apa yang perlu diperhatikan
Semasa pemasangan, pastikan lampu tersebut sesuai dengan bentuk lubang alat, sumber tenaga, dan sistem penyejukan yang digunakan. Periksa voltan dan keserasian konektor, serta pastikan profil haba lampu sesuai dengan prosedur yang digunakan. Prestasi lampu akan lebih baik jika kimia permukaan wafer dapat dikawal dengan baik. Bahan surfaktan yang ada boleh mempengaruhi proses pengeringan, jadi kendalikan bahan-bahan tersebut dengan baik.