Trên sàn sản xuất, sự lệch 0.5°C trong hồ sơ nướng của buồng PECVD không phải là một ghi chú phụ. Nó thể hiện qua độ không đồng nhất về độ dày trên bề mặt wafer, căng thẳng không đúng và nhiều lô hàng bị loại bỏ. Bạn cần nhiệt độ theo quy trình, không phải ngược lại. Những gì quan trọng bên trong Chúng tôi đã xây dựng bộ phát hồng ngoại PECVD dựa trên sóng ngắn NIR vì thời gian phản hồi được đo bằng giây, không phải phút. Mục tiêu là độ đồng nhất ở mức wafer là ±0.1°C trên toàn bộ vùng nướng, và nó giữ ổn định qua cả công thức nướng mềm và nướng cứng. Vỏ thạch anh và thân gốm tương thích với phòng sạch cho môi trường Class 1–100, và thiết kế nhiệt giữ cho sự sinh ra hạt bụi ở mức không. Độ lặp lại đầu ra giữ trong khoảng 1% qua hàng ngàn chu kỳ, vì vậy ngân sách nhiệt của bạn được kiểm soát. Tại sao nó hoạt động trong lithography và PECVD Photoresist và các phim đã lắp đặt nhạy cảm với các điểm nóng và cạnh lạnh. Bộ phát này giữ cho hồ sơ nhiệt nhất quán từ trung tâm đến cạnh, điều này giảm biến thể chiều rộng đường và cải thiện năng suất. Phản ứng nhiệt nhanh chóng rút ngắn thời gian quay vòng của buồng, và phát xạ ổn định giảm lãng phí năng lượng. Cửa sổ quy trình thắt chặt một cách dự đoán, với ít lần tái đủ điều kiện hơn và ít thời gian ngừng hoạt động không dự kiến. Những chi tiết thực tế bạn không thể bỏ qua Bộ phát hoạt động khi nó được ghép nối với hình học phản xạ và nguồn điện phù hợp. Mong đợi các yêu cầu tương thích rõ ràng với các thiết bị và kết nối buồng hiện có, và lên kế hoạch cho độ chính xác căn chỉnh cẩn thận trong quá trình cải tiến. Độ ổn định đầu ra mạnh nhất khi lưu lượng không khí và áp lực gắn giữ trong khoảng đã chỉ định, vì vậy hãy coi giao diện cơ khí là một phần của hệ thống nhiệt, không phải là một suy nghĩ sau.