在光刻工序中，PEB步骤的作用就是确定晶圆的线条宽度。如果让温度变化0.5°C，那么最终得到的图案质量就会受到影响，而这种问题可能需要数周时间才能解决。我们设计这款曝光后烘烤加热器，就是为了消除这种不确定性。
关键点在于： 该加热器的核心是由石英-卤素短波发射器构成的阵列，配合闭环控制系统使用。在300毫米的晶圆上，其温度均匀性可保持在±0.1°C以内。不同批次之间的重复性则保持在±0.2°C以内，这样就能确保光阻层的活化效果稳定不变。此外，加热器的材质符合1-100级洁净室标准，而且其结构设计能够减少湍流，从而避免在烘烤过程中产生颗粒物。该加热器可以提供从90°C到150°C的稳定温度，升温速度可达10°C/秒，同时还能避免出现热点现象。
好处在于： PEB温度的误差会直接导致CD值的偏差以及成品率的下降。使用这款加热器后，软烘烤和硬烘烤过程就能按照预定的程序进行，而不会受到设备自身参数的影响。这样一来，废品率就会降低，关键层的尺寸控制也会更加精确，同时工艺流程也会更快完成。
另外，由于短波光源只加热目标物体，而不加热周围环境，因此还可以节省能源。较低的熱质量意味着从待机状态到开始烘烤状态的切换时间更短。而且，该系统设计为可以24/7连续运行，维护工作也可以有计划地安排。
使用要求： 该加热器可以与标准的FOUP和SEMI接口兼容，但需要专用的24伏控制线路，以及干净的干燥空气，这样才能确保净化效果。安装时，建议预留30分钟的时间来进行对齐和温度稳定性检测。之后，则需要每天用经过校准的晶圆来检测温度均匀性。
如果你身处高湿度环境中，那么就需要确认净化气流的速率。否则，冷凝水可能会干扰红外光路，从而导致微小的、可重复的误差。