Z waferu vyjíždí z čistící lázně pokrytý vrstvou DI vody. Sušicí pec musí tuto vlhkost odstranit, aniž by došlo k poškození fotoresistu nebo uvolnění...

Na lince, flexibilní elektronika se vychýlí, jakmile se teplota při pečení fotorezistu odchýlí. Na 300 mm wafru stačí pár desetin stupně, aby došlo k...