Udržení vašich výrobků suchých bez nepořádku Pokud provozujete čistou místnost třídy 100, určitě znáte strašidelné následky úniku částic. Jeden malý...

Proč je IR zahřívání lepší než horký vzduch při sušení waferů MEMS Pokud stále používáte cirkulaci horkého vzduchu k sušení waferů senzorů typu MEMS,...

V prostředí výroby může jeden kapek vody po procesu litografie způsobit velké problémy. Konvenční metody sušení způsobují kolísání teploty a částice...

Z waferu vyjíždí z čistící lázně pokrytý vrstvou DI vody. Sušicí pec musí tuto vlhkost odstranit, aniž by došlo k poškození fotoresistu nebo uvolnění...