반도체 가공용 히터 소자

팹에서는 포토레지스트를 건조시키거나 웨이퍼를 건조하는 과정에서 발생하는 온도 변동이 단순한 이론적인 문제가 아닙니다. 이러한 변동은 실제적인 결함과 수율 저하로 이어집니다. 오븐이나 히트플레이트가 규정된 온도를 유지할 수 없으면, 웨이퍼의 선폭 제어가 어려워지고, 접...