Infraroodlampcontact voor wafer hulpmiddel
Op de productieafdeling is het bekend dat een verschil van 1°C tijdens het ‘soft bake’-proces of het drogen van de wafer al voldoende is om de...
Infraroodlamp voor Applied Materials apparaat
Op de productievloer manifesteert thermische drift zich niet als een alarm en een stop. Het uit zich als een kritieke maat die afwijkt, een randdikte...