PECVD加热红外发射器

在工厂车间，PECVD腔体烘烤曲线的0.5°C漂移并不是一个附注。它表现为晶圆上的厚度不均匀、应力异常以及大量的废料。你需要的是跟随工艺的热量，而不是反过来。 背后的关键因素 我们在短波NIR的基础上构建了PECVD加热红外发射器，因为响应时间是以秒来计算，而不是以分钟。目标是在烘烤区域内实现晶圆...