Berhentilah menunggu oven berfungsi dengan baik: Mengapa IR lebih unggul daripada sistem penggunaan udara terpaksa dalam proses semikonduktor
Jika Anda pernah bekerja di laboratorium semikonduktor, pasti Anda tahu betapa menyebalkannya harus menunggu hingga udara panas beredar di dalam ruangan. Proses ini sangat lambat. Sistem penggunaan udara terpaksa pada dasarnya merupakan cara untuk memanaskan udara, lalu ruangan tersebut, dan akhirnya—jika beruntung—bahan yang akan diproses. Proses ini sangat lambat, dan dalam lingkungan produksi yang memiliki tekanan tinggi, waktu tunggu tersebut terasa seperti selamanya.
Inilah keunggulan lampu inframerah yang digunakan di ruang bersih. Alih-alih memanaskan seluruh ruangan, lampu inframerah hanya memancarkan energi langsung ke permukaan bahan yang akan diproses. Ini merupakan cara yang jauh lebih efektif.
Dengan menggunakan lampu inframerah, Anda tidak perlu menunggu proses pemanasan selesai. Lampu ini dapat mencapai suhu operasionalnya dalam beberapa detik saja. Tidak perlu lagi menunggu proses pemanasan selesai. Bagi tim Anda, hal ini berarti waktu yang dibutuhkan untuk memproses setiap wafer berkurang. Anda dapat meningkatkan kecepatan proses produksi, sehingga prosesnya menjadi lebih cepat.
Namun, ada satu hal yang perlu diperhatikan. Karena lampu inframerah menghasilkan panas yang sangat tinggi di ruang kecil, maka sistem HVAC dan sistem pembuangan udara perlu mampu menangani beban panas tersebut. Jika tidak, maka Anda hanya mengganti satu masalah dengan masalah lainnya.
Selain itu, faktor kebersihan juga perlu diperhatikan. Kipas angin pada dasarnya digunakan untuk menggerakkan debu, padahal hal ini tentu tidak diinginkan di ruang bersih. Lampu inframerah tidak menggerakkan udara; ia hanya memancarkan cahaya. Dengan demikian, ruangan tetap bersih.
Kita melihat manfaat terbesar dari penggunaan lampu inframerah pada tahap pengeringan dan degasifikasi. Alih-alih menunggu ruangan mencapai suhu yang ideal, lampu inframerah dapat memanaskan bahan tersebut secara langsung. Proses ini lebih cepat. Bagi fasilitas yang ingin memproses lebih banyak wafer tanpa mengorbankan kualitasnya, penggunaan lampu inframerah merupakan langkah pertama yang biasanya dilakukan.