Menguruskan masalah haba dan ketidakstabilan semasa memanaskan wafer
Ketika memanaskan wafer dalam proses pembersihan kimia, kita bukan sekadar berusaha mencapai suhu yang ditetapkan. Sebenarnya, kita sedang menguruskan risiko yang mungkin timbul.
Sejujurnya, banyak bahan pembersih tersebut bersifat mudah terbakar. Ada juga yang sangat mudah meletup. Jika kita meletakkan lampu inframerah di dekat wap tersebut, ia boleh menyebabkan kebakaran. itulah sebabnya kita berhenti menggunakan lampu yang terdedah kepada udara luar, dan beralih kepada sistem IR yang tertutup. Ini merupakan langkah yang lebih selamat.
Jarak keselamatan yang diperlukan
Jarak keselamatan bukanlah angka rawak yang dipilih secara sembarangan. Ia merupakan jarak yang perlu ada agar bahagian-bahagian lain di sekeliling lampu tetap sejuk, supaya bahan kimia tidak terbakar. Kita menentukan jarak ini dengan melihat kuasa lampu dan cara pengekstrakan haba oleh kotak lampu tersebut.
Masalahnya ialah, jika lampu diletakkan terlalu dekat dengan wafer atau dinding bilik, haba yang dihasilkan akan menjadi terlalu tinggi. Ini akan menjadikan wap-wap berbahaya tersebut lebih berbahaya lagi. Kita memerlukan ruang yang cukup untuk aliran udara atau sistem penyejukan yang efektif, agar haba dapat dialirkan keluar sebelum keadaan menjadi buruk.
Mengapa kita perlu menutup segala sesuatu
Kita tidak membiarkan tiub kuarza terdedah begitu sahaja. Lampu-lampu tersebut berada di dalam kotak yang tertutup dan tahan terhadap bahan kimia. Ini bertujuan untuk membentuk “dinding” antara komponen pemanas dan bahan-bahan berbahaya di udara. Kita menggunakan bahan pengedap berkualiti tinggi, kerana jika bahan pembersih bocor ke dalam kotak tersebut, ia akan menyebabkan masalah besar.
Kompromi yang perlu dilakukan
Namun, ada juga kelemahan dalam pendekatan ini. Dengan adanya penghalang antara sumber IR dan wafer, tenaga sinaran yang dihasilkan akan berkurangan sedikit. Walaupun jumlahnya tidak banyak, tetapi ia masih wujud. Untuk mengatasi hal ini, kita perlu meningkatkan kuasa lampu atau membiarkan wafer dipanaskan lebih lama untuk mencapai suhu yang diinginkan. Pastikan bekalan kuasa dapat menanggung beban tambahan tersebut. Ini adalah harga yang kecil untuk mengelakkan kemungkinan kebakaran di makmal kita.