Di bahagian litografi ini, langkah PEB digunakan untuk menetapkan ketebalan garis yang diinginkan. Jika suhu berubah sebanyak 0.5°C pada wafer tersebut, ia akan menyebabkan kesilapan dalam proses pencetakan yang memerlukan masa berminggu-minggu untuk diperbaiki. Kami mencipta pemanas Post Exposure Bake ini untuk mengelakkan masalah tersebut.
Apa yang penting di belakang tabir
Komponen utamanya ialah array pemancar gelombang pendek jenis kuarsa-halogen, yang digabungkan dengan sistem kawalan berlitar tertutup. Pada wafer berukuran 300 mm, keseragaman suhu dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C. Ketepatan proses juga kekal pada tahap ±0.2°C dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain, supaya profil aktivasi fotoresist tidak berubah. Bahan-bahan yang digunakan dalam sistem ini adalah berkualiti tinggi, sesuai untuk kelas kebersihan 1–100. Reka bentuk pemanas ini pula membantu mengurangkan turbulensi, sehingga tidak ada zarah-zarah yang terbentuk semasa proses pembakaran. Anda akan mendapat nilai suhu yang stabil antara 90°C hingga 150°C, dengan kadar peningkatan suhu sebanyak 10°C/s. Selain itu, reka bentuknya juga memastikan tiada kawasan panas di permukaan wafer.
Masalahnya ialah ralat suhu PEB akan menyebabkan ralat CD dan penurunan kadar pengeluaran. Dengan pemanas ini, proses pembakaran dapat berjalan seperti yang dirancang, bukan mengikut keputusan alat tersebut. Hasilnya ialah jumlah wafer yang gagal dikurangkan, distribusi lapisan-lapisan penting menjadi lebih tepat, dan proses pensijilan dapat dilakukan dengan lebih cepat.
Anda juga dapat menjimatkan tenaga, kerana sumber gelombang pendek ini hanya memanaskan objek yang diinginkan, bukan kawasan sekelilingnya. Massa haba yang rendah mempercepatkan proses peralihan dari keadaan rehat ke keadaan pembakaran. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7, dan penyelenggaraannya boleh dirancang dengan mudah.
Apa yang diperlukan untuk mengoperasikannya
Pemanas ini boleh berfungsi dengan antaramuka FOUP dan SEMI yang standard. Namun, ia memerlukan saluran kawalan 24 V yang khusus, serta udara bersih dan kering untuk memastikan proses pembersihan berjalan dengan efektif. Semasa pemasangan, sediakan masa 30 minit untuk penyesuaian dan pemeriksaan keseragaman suhu. Selepas itu, lakukan pemeriksaan keseragaman suhu setiap hari menggunakan wafer yang telah dikalibrasi.
Jika anda berada di kawasan yang mempunyai kelembapan tinggi, pastikan kadar aliran udara yang digunakan untuk pembersihan mencukupi. Jika tidak, kelembapan boleh mengganggu sinar inframerah dan menyebabkan ralat yang kecil tetapi berulang-ulang.