Litografi işlemi sırasında, PEB adımı, çizgi genişliklerini belirlediğimiz aşamadır. Waferin sıcaklığını 0,5°C kadar değiştirirseniz, haftalarca uğraştığınız bir hata ortaya çıkabilir. Bu yüzden bu tür bir ısıtıcıyı geliştirdik ki bu değişkenliği ortadan kaldırabilmek mümkün olsun.
Önemli olan şeyler:
Temel yapı, kapalı döngü kontrolüyle birlikte çalışan kuvars-halogen kısa dalga yayıcılarından oluşur. 300 mm’lik wafer üzerinde termal düzenlilik ±0,1°C içinde kalır. Partiler arasındaki tekrarlanabilirlik ise ±0,2°C civarındadır; böylece fotoresistin aktivasyon profili bozulmaz. Odanın malzemeleri Class 1–100 standartlarına uygun şekilde seçilmiştir ve ısıtıcının geometrisi de türbülansı en aza indirger; böylece ısıtma sırasında parçacık oluşumu engellenir. 90°C ile 150°C arasında stabil ayarlar elde edilebilir; ısı artış hızı ise 10°C/s’ye kadar çıkabilir. Ayrıca, sıcak noktaların oluşmasını önleyecek bir tasarım da mevcuttur.
PEB sıcaklık hatası doğrudan CD hatalarına ve verim kayıplarına yol açar. Bu ısıtıcı sayesinde, yumuşak ve sert ısıtma süreçleri planlandığı gibi işler; cihazın kendi kararlarına göre değil. Böylece daha az atık wafer olur, kritik katmanlarda daha iyi dağılım sağlanır ve kalifikasyon işlemleri daha hızlı gerçekleşir.
Ayrıca enerji tasarrufu da sağlanır; çünkü kısa dalga kaynağı sadece hedefi ısıtır, çevreyi değil. Düşük termal kütle sayesinde bekleme süresi azalır. Sistem 24/7 çalışacak şekilde tasarlanmıştır ve bakım işlemleri planlanabilir.
Kullanım için gerekenler:
Isıtıcı, standart FOUP ve SEMI arayüzleriyle çalışır; ancak etkili bir temizlik işlemi için özel bir 24 V kontrol hattı ve temiz, kuru hava gereklidir. Kurulum sırasında hizalama ve termal sapma kontrolü için 30 dakika ayrılmalıdır. Bundan sonra, kalibre edilmiş bir wafer kullanarak her gün düzenlilik kontrolü yapılmalıdır.
Eğer yüksek nem oranına sahip bir ortamda çalışıyorsanız, temizleme akış hızını kontrol edin. Aksi takdirde yoğuşma, kızılötesi ışınların yolunu bozabilir ve küçük, tekrarlanabilir sapmalara neden olabilir.