Üretim alanında bilindiği üzere, foto dirençlerin yumuşak şekilde ısıtılması veya wafer’lerin kurutulması sırasında meydana gelen 1°C’lik bir değişiklik bile kritik ölçümleri bozabilir ve verimi düşürebilir. İşte bu yüzden wafer ekipmanlarındaki kızılötesi lambalar, termal kontrolü daha kolay hale getirecek şekilde tasarlanmıştır.
Önemli olan şeyler
Yüksek saflıkta kuvars malzemelerle birlikte kullanılan kısa dalga boylu kızılötesi ışık kaynakları sayesinde, saniyeler içinde hızlı ve lokal ısıtma sağlanır. Wafer üzerindeki sıcaklık düzgünlüğü ±0,1°C arasında kalır ve ayar noktasının tekrarlanabilirliği ise döngüden döngüye ±0,5°C civarındadır. Bu tasarım, çalışma sırasında hiçbir partikül üretmez ve 1. sınıftan 100. sınıfa kadar olan tüm temiz oda koşullarına uyumludur. Güç sağlaması istikrarlıdır; voltaj toleransı düşüktür ve ışınlanma seviyesi sabittir. Böylece her ekipmanda ve her vardiyada aynı termal profil elde edilir.
Litografi ve diğer alanlarda neden önemli?
Litografide, yumuşak ısıtma işlemi çözücülerin uzaklaştırılmasını ve foto dirençlerin yüzeye yapışmasını sağlar; sert ısıtma ise aşındırma işleminden önce deseni sabitlemek için kullanılır. Kızılötesi lambalar her iki işlemi de stabilize eder, böylece çizgi genişliğindeki dalgalanmalar azalır ve kenar problemleri ortaya çıkmaz. Waferlerin temizlenmesi ve kurutulması sırasında hızlı ısıtma işlemi, süreci kısaltır ve enerji tüketimini azaltır. Sonuç olarak daha yüksek verimlilik, daha az yeniden işleme gereksinimi ve her seferinde güvenilir sonuçlar elde edilir.
Sizi zor durumdan kurtaran ipuçları
Kurulum sırasında lamba, soket ve yansıtıcı arasındaki doğru hizalamaya dikkat edilmelidir. Kalifikasyon öncesinde termal bağlantı ve soğutma yolları kontrol edilmeli ve soket malzemesinin foto dirençlerdeki çözücülerle uyumlu olduğundan emin olunmalıdır. Uzun süreli kullanım için ışınlanma seviyesini korumak amacıyla lambaların zamanında değiştirilmesi gerekmektedir.