Umgang mit Hitze und Volatilität beim Erhitzen von Wafers Wenn man Wafers in einer chemischen Reinigungsanlage erhitzt, geht es nicht nur darum, eine...

Warum wir jeden einzelnen IR-Sensor testen – und warum das für Ihren Boden wichtig ist Seien wir ehrlich: In einer Waferfabrik ist ein kleiner...

Die richtige Beheizung in der digitalen Ära Wenn Sie eine intelligente Fabrik errichten, haben Sie wahrscheinlich bereits erkannt, dass die alten...

Warum IR-Heizung zur Trocknung von MEMS-Wafern besser ist als Heißluft Wenn Sie immer noch Heißluft zur Trocknung Ihrer MEMS-Sensorwafer verwenden,...

In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Schon eine Schwankung von 1 °C während des Weichbrennvorgangs oder beim Trocknen der Wafer reicht aus,...

In der Fertigungshalle gilt: Schon eine Abweichung von eben einmal einem halben Grad bei der Aufheizung des Fotoleitmaterials kann dazu führen, dass...

In der Fertigungsstelle führt das Fan-Out-WLP-Verfahren dazu, dass während des Trocknungsprozesses sowohl „lebende“ als auch „tote“ Bauteile...

In der Produktionsstätte reicht bereits eine Temperaturabweichung von 0,5 °C während des Trocknungsprozesses aus, um ganze Chargen zu verschwenden....

Aus dem Reinigungsbad kommt ein Wafer mit einem Film von DI-Wasser. Der Trockenschrank muss diese Feuchtigkeit entfernen, ohne den Fotolack zu...

Auf dem Fertigungsboden ist das Backen von Fotolack nicht nur ein weiterer thermischer Schritt – es ist Ihr thermisches Budget. Wenn Sie auch nur um...

Out on the line läuft bei einer flexiblen Elektronikproduktion alles schief, sobald das Backen des Photoresists abdriftet. Über die 300 mm...