ウェーハを加熱する際の熱や不安定さへの対処法 化学的な洗浄処理を行う際、単に所定の温度に到達させるだけでは不十分です。実際には、リスクを管理する必要があります。 正直言って、これらの洗剤の多くは可燃性があります。中には、実際に爆発するものもあります。もし、開放型の赤外線ランプをその蒸気の近くに置い...

なぜ、すべてのIRセンサーをテストするのか？そして、それがお客様の製造現場にとってなぜ重要なのか？ 正直に言えば、ウェーハ製造工場では、わずかな電気漏れでも大問題です。一度でもミスがあれば、大量のシリコンが台無しになったり、家の価値以上の高価な装置が故障したりします。だからこそ、ここでは「バッチサ...

デジタル時代におけるファブの適切な加熱方法 スマートファブを構築する際、従来の加熱方法ではもはや不十分だと気づくでしょう。ウェハーを加熱するためには、高効率な赤外線システムを使用するのが最善です。その理由は単純で、高速に加熱できるからです。 すべてがデータ駆動型の世界では、加熱要素は単に熱を放出す...

なぜMEMSウェーハの乾燥にはIR加熱がホットエアより優れているのか もしまだMEMSセンサーのウェーハを乾燥させるためにホットエアを使用しているなら、単に待つだけで多くの時間を浪費していることになります。これは大きなボトルネックです。 ホットエアは対流に頼っています。まず空気を加熱し、その後その...

製造現場では、フォトレジストのソフトベイクやウェーハの乾燥時に1℃程度の温度変動があっただけで、重要な寸法が変わり、歩留まりが低下してしまいます。そのため、ウェーハ処理装置に搭載されている赤外線ランプのソケットは、熱管理を正確に行うために設計されています。 内部で何が重要か 私たちは、高純度の石英...

ファブの現場では、ご存知の通り、フォトレジストを加熱する際に、わずか0.5度でも温度が変動すると、ウェーハの寸法管理が崩れ、良品であったはずのウェーハが廃棄されてしまいます。そのため、急速に温度を上げ、すぐに安定させ、その状態を繰り返し維持することが必要です。 内部で何が重要か 私たちが開発した高...

ファンアウトWLPの場合、ベイク工程において、ライブ領域とダイ領域が分離されます。フォトレジストの軟質ベイク時の温度変動や、エポキシ型材の硬化過程で数度の温度偏差があると、線幅の制御が不安定になり、不具合が生じます。また、再構成されたパネル全体の温度分布が均一でないと、スクラップが増え、生産能力が...

工程について ファブフロアでは、フォトレジストの焼成は単なる熱処理のステップではなく、熱予算そのものです。ターゲットから半度でも外れると、クリティカル寸法のドリフトや歩留まりの損失が、ロットごとに発生します。この予算は、熱が形作られる場所、すなわちウエハー硬化ランプのリフレクターで強制されます。...

ライン上では、フォトレジストのベーク温度がわずかにずれるだけで、フレキシブルエレクトロニクスの生産が横滑りします。300 mmウェハ全体で、数十分の1度の差がライン幅のにじみを引き起こし、計測でバッチが問題視されるまで気づきません。そうなると、すでにスクラップになっています。必要なのは、全基板でレ...